在微纳制造领域，每一个纳米的精度提升都意味着良率的飞跃。今天，我们自豪地推出了这一革新性的产品系列——不仅是一个运动台，更是一个基于客户需求的灵活解决方案。
在追求极致精密的道路上，传统单一配置产品已难以满足多元化的半导体检测场景。我们发布的这款全新模块化气浮平台，性能全面对标国际一线品牌，通过创新的宏动与微动组合，实现了六自由度的高精度控制。凭借气浮导向减少摩擦与垂向磁浮重力补偿技术，该系统在步进与扫描两种工况模式下均展现出优越性能——既能大幅缩短产线节拍，又能确保扫描成像质量，真正做到了一套系统，解决多重痛点。
我们不只提供参数，更解决难题。通过气浮导向减少摩擦，采用磁浮重力补偿降低垂向发热，我们让运动更加平稳，精度更加持久。高配版本的双向重复精度甚至可达±50nm，这是对精度的极致追求。
定位精度±200nm确保关键尺寸准确性，解决芯片与光学检测良率低的痛点。
整定时间30mm 300ms@80nm，极快整定大幅缩短定位等待时间，提升设备吞吐量。
速度均匀性±0.1%，超高速度稳定性保证线扫/面扫数据一致性，杜绝模糊失真。
静态稳定性±10nm，卓越热稳定性和结构刚度，保证长时间测量结果一致性。
我们理解每个定制型号的设备都是独一无二的。因此，我们提供了清晰的模块化选型路径，从基础到进阶，满足不同阶段的客户需求。
基础核心配置。350mm行程，800mm/s速度。气浮导向龙门结构搭配减振器，实现高速高加速及±200nm定位精度。
选配 Z、T、ZT 或 Z3T 模块。实现 Z, RX, RY, RZ 多自由度微调，磁浮音圈电机直驱实现高带宽响应。
可选配主动/被动减振器，有效隔绝环境振动干扰，确保极致测量稳定性，适用于超精密检测。
