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量检测设备

北斗-璇玑·鉴影系列:掩膜版检测

新品发布

北斗-璇玑·鉴影系列:掩膜版检测

从纳米级挑战到"璇玑·鉴影"的诞生:一场关于精度的突围

在芯片制造的微观世界里,一枚比手掌还小的掩膜版,却承载着数百亿晶体管的命运。然而,当工艺节点推进至7nm甚至更先进节点时,一个肉眼无法察觉的纳米级缺陷,便可能导致整片晶圆的报废。

这是许多国内芯片制造企业每天都在面对的隐形风险。面对先进掩模相位型缺陷的检测难题,以及进口设备高昂的成本和漫长的交付周期,行业急需一种既能满足纳米级精度要求,又具备高性价比的国产化解决方案。

13.6亿美元
2031年先进掩模市场预计
12.2%
年复合增长率
Class 10
高配版洁净等级要求

数据显示,全球先进制程掩膜版市场正以惊人的速度增长,但国内厂商在上游材料与检测设备方面,依然严重依赖进口。这种依赖不仅推高了成本,更在供应链安全上埋下了隐患。如何在这个高门槛的技术领域实现突围?

 

"璇玑·鉴影"新品发布

隐冠半导体推出全新系列光刻掩膜版检测设备精密运动平台,旨在为国产高端光学检测设备提供高精度、高可靠性的核心动力,填补市场空白。

命名逻辑:北斗指引,璇玑度量
我们以"北斗"为核心,为精密运动平台系统进行系列化命名。北斗七星,是天空中十分醒目、指引方向的星座,寓意着精准、可靠、引领和探索,这与精密运动平台的技术特质高度契合。

"璇玑"是古代北斗星的古称之一,也指观测天象的精密仪器(如浑天仪的核心部件)。此名直接关联北斗,并深刻寓意着在量检测领域如同精密仪器般,对微观世界进行高度观测与度量。

"璇玑·鉴影"寓意:鉴,审查、镜鉴;影,指掩膜版的图形。意为精准审查掩膜版上的每一处图形瑕疵。

"璇玑·鉴影"并非单一产品,而是一套模块化、可配置的精密运动平台解决方案。我们深知,不同应用场景对精度、速度和环境有着截然不同的需求。因此,我们设计了从标准版到强定制版的四档配置,覆盖了从产线快速初检到高真空环境纳米级光学测量的全场景需求。

智能选型路径图:三步精准定位
1
明确需求
最小缺陷尺寸?
掩膜材料规格?
检测环境?
2
匹配双向重复精度
0.8μm → 标准版
0.1μm → 进阶版
0.05μm → 高配版
3
定制适配
先进制程/相移掩模
特殊材料
集成需求

标准版:产线快速初检

  • 适用于:产线快速筛查,预算有限的客户
  • 精度:±0.8μm
  • 运动轴系:X轴扫描/XY平面定位
  • 核心优势:成本优势明显,交付效率高,灵活升级

进阶版:工艺过程监控

  • 适用于:主流产线,工艺研发与质量控制
  • 精度:±0.1μm
  • 运动轴系:XYZT四轴全检
  • 核心优势:精度均衡,扩展性强,高重复性

高配版:纳米级缺陷复查

  • 适用于:7nm/研发中心,高精度要求
  • 精度:±0.05μm(纳米级)
  • 运动轴系:六轴联动 (XY+Z3T)
  • 核心优势:纳米级分辨,多光谱成像,自动化程度高

强定制版:特殊应用解决方案

  • 适用于:先进掩模、真空/低温环境、国家实验室
  • 特性:针对先进制程/相移掩模的极端环境设计
  • 兼容:低热膨胀材料、非标尺寸
  • 集成:客户协议对接、远程操控
  • 核心优势:高度定制化,解决5%的特殊需求
 
技术升级路径:陪伴式成长
起步:标准版
基础架构
进阶:进阶版
更高精度
更强性能
顶尖:高配版
纳米级控制
卓越性能

我们理解,企业的需求是不断演进的。"璇玑·鉴影”为您提供了清晰的产品升级路径。您可以从"标准版”起步满足基础需求;随着工艺要求的提升,您可以选购"进阶版”来升级核心检测能力;而对于纳米级的极高要求,"高配版”则是最终选择。这种"陪伴式"的产品理念,旨在高度保护您的投资规划。

从解决产线快速初检的痛点,到攻克纳米级检测的难关,"璇玑·鉴影”不仅是隐冠半导体对技术高峰的一次挑战,更是对国产半导体装备自主化的一份承诺。

我们相信,通过模块化设计与精准选型指南,能够帮助客户找到适合自己的那把"手术刀",在微米与纳米之间,精准定位未来。

隐冠半导体解决方案矩阵

北斗系列:精密运动系统解决方案

1 璇玑系列
半导体 - 量检测
膜厚/关键尺寸量测 璇玑·窥微 套刻精度量测 璇玑·叠矩 掩膜版检测 璇玑·鉴影 明场/暗场缺陷检测 璇玑·辨晷 电子束检测 璇玑·溯光
2 天权系列
半导体 - 晶圆制造 - 高端装备
纳米压印 天权·印鉴 激光直写 天权·织纹
3 玉衡系列
半导体 - 先进封装 - 混合键合
混合键合 玉衡·合璧
4 开阳系列
半导体 - 先进封装 - 其他
TGV 开阳·通幽 减薄机 开阳·琢瑜 固晶机 开阳·定辰 划片机 开阳·析晶
数据来源注释:
① Global Info Research:《全球及中国先进制程掩膜版行业研究及十四五规划分析报告》:2031年,先进制程掩膜版市场规模将达到13.6亿美元;2024年全球先进制程掩膜版市场价值为5.91亿美元,预计到2031年将达到13.6亿美元,预测期内复合年增长率为12.2%
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